什么是等離子體態(tài)？
等離子體態(tài)通常會被稱為“物質的第四態(tài)"不同于自然界中的固體、液體或氣體，等離子體只能從持續(xù)接受能量的氣體中獲取。
舉個例子，在氣體中放置兩個電極并施加一定的電壓以產生放電，此時便可產生等離子體。這就產生了一種包含許多高活性物質的電離介質，如離子（帶正電或負電）和激發(fā)的亞穩(wěn)態(tài)分子。
在表面處理中，正是利用了這些高活性物質的特性，讓它們參與非?？焖俚幕瘜W反應。
根據制造等離子體的技術手段和預期用途，氣體介質的溫度可保持在較低水平，接近環(huán)境溫度；又或者大幅上升，達到1000℃以上的溫度。這就是所謂的冷等離子體或熱等離子體。
等離子體可在低壓（或真空）或常壓下產生。
低壓等離子體需要在真空室中產生，一般是由真空泵制造低于大氣壓的壓力。這類裝置在表面處理方面提供了很大的可能性，但泵送時間的長短往往是其工業(yè)發(fā)展中的一個限制。
在大氣壓力下，等離子體會由專門設計開發(fā)的設備中產生。因此常壓等離子體的配置具有雙重經濟優(yōu)勢：它避免了真空室和抽氣裝置的投入成本，并且，通過直接集成到連續(xù)運行的生產線上，這可以直接提高生產效率。
在AcXys Technologies，令我們引以為豪的等離子體技術是獨立自主開發(fā)的，包括集成在主機中的可控功率電子裝置，和性能出色的的等離子體源。
我們所開發(fā)的等離子體技術與設備，使高速處理材料成為可能，并能與工業(yè)應用中涉及的多種材料兼容。
等離子體其顯著的化學反應性，可以用來改造許多材料的表面。為了獲得這一結果，只需將參與反應的氣流引向待處理的表面即可。
由此產生的可用于表面處理的化學反應可分為以下三類。
等離子體技術能夠去除極薄的表面污染層，無論是有機物還是碳氫化合物。
除了基于液體的清潔技術外，在某些應用場景下也會使用等離子體清潔。
表面活化是通過向材料表層添加原子或分子的方式，改變材料表面性質的過程。
這一工藝現已被廣泛應用在工業(yè)生產中，尤其是當涉及到需要增強粘合劑、油墨、油漆或清漆的附著力時。
等離子體技術同樣也會被應用在薄膜沉積的工藝中。
可通過將待沉積的液態(tài)或氣態(tài)化學制品與等離子體混合，最終沉積在材料表層。
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