日本funatech紫外線運用設備介紹
UV氧化設備主要用于超純水生產設備。在近年來小型化的半導體、晶片、液晶面板等的制造中，為了保持高成品率，去除水中的TOC（有機物）等雜質的超純水盡可能是必需的。
紫外線氧化裝置是與后段離子交換樹脂一起生產超純水*的裝置，被許多電子廠采用。
■ 典型分子的化學結合能
■ 主波長能量
■ 分解型
它是一種有效地照射由大功率低壓汞燈產生的真空紫外線（184.9 nm）并氧化分解水中有機物的裝置。適用于將 TOC 降低 ppb 級。
* 型號將根據安裝空間、處理量和所需的 TOC 濃度進行選擇。
近年來，臭氧水由于具有很強的氧化能力，被廣泛用作半導體廠和液晶廠的清洗水。但是，使用后的有害臭氧水即使濃度低也對人體有害，對設備造成很大的負擔，例如配管內的填料劣化，因此需要迅速分解。OR系列可在短時間內將高濃度臭氧水分解至1ppm以下。它還可以有效降低運行成本和維護頻率。
■ 使用示例
它可以用作活性炭吸附的替代品。
也可提供高濃度、高流量設備。
我們有很多拆機記錄。
* 機型將根據處理量和臭氧濃度進行選擇。
它是一種通過低壓汞燈發出的真空紫外線（184.9 nm）將氧（O3）臭氧化的裝置。
由于不產生氮氧化物，因此很容易產生清潔的臭氧，不會產生對人體有不利影響的光化學煙霧或空氣污染，如喉嚨和氣管。
臭氧產生量：0.1-2.0 g/h
體積小巧緊湊。
它消耗更少的電力并且維護成本更低。
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